中国国内主要光刻胶公司

2018-07-23 12:40:02 3351

中国国内主要光刻胶公司

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苏州瑞红

苏州瑞红是上市公司晶瑞股份的全资子公司,1993年开始光刻胶的生产,是国内最早规模化生产光刻胶的企业之一,承担了国家重大科技项目02专项 “i线光刻胶产品开发及产业化”项目,在国内率先实现目前集成电路芯片制造领域大量使用的核心光刻胶的量产,可以实现0.35μm的分辨率。

北京科华

北京科华成立于2004年,建有国内第一条拥有自主知识产权的年产500吨i线光刻胶生产线,打破了我国i线光刻胶长期依赖进口的局面,目前其已完成了年产能10吨的248nm KrF光刻胶生产线的建设。据悉,北京科华193 nm ArF干法光刻胶中试产品也已完成在国内一流集成电路制造企业的测试。

星泰克

星泰克成立于2010年,专业从事高性能光刻胶及配套试剂的研发、生产和销售,目前产品包括图形化蓝宝石衬底(PSS)专用光刻胶、剥离(lift-off)光刻胶、柔性光刻胶、纳米压印光刻胶、高硅耐刻蚀光刻胶、DUV光刻胶、王水光刻胶及各类显影液和去胶液等,广泛应用于LED、LCD、IC、MEMS、封装等领域。

飞凯材料

飞凯材料主要从事高科技领域适用的紫外固化材料及其他新材料的研究、生产和销售,目前逐步渗入包括光刻胶在内的其他紫外固化材料及其他新材料应用领域,其光刻胶项目(主要用于PCB领域)已于2016年3月全部建设完毕并投入使用,光刻胶产品已通过两家客户认证,TFT光刻胶、LCD 光刻胶目前正处于客户认证过程中。

上海新阳

今年3月,半导体材料企业上海新阳发布公告称,拟与合作方共同投资设立子公司开展 193nm(ArF)干法光刻胶研发及产业化项目,计划总投资 2亿元人民币,其中全球最早涉足193nm光刻胶技术人员之一邓海博士的技术团队在子公司占股20%。